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193奈米浸潤式微影技術

創造半導體兩次大躍進台積電林本堅10奈米要再衝一次

再者,193奈米浸潤式曝光機也是半導體產業壽命最常的微影設備,對比之前248曝光機、193乾式曝光機等,193奈米浸潤式技術可以從65奈米、40奈米、28奈米、16奈米、10奈米製程 ... ...(以下省略)

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