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半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察
2023年1月25日 — 其優勢在於製程簡單、可應用的材料多元、不需要光罩、成本比雷射曝光低、生產快速,但缺點在於線寬精細度和大面積製作的接合、印模壽命、以及元件中各材料 ... ...(以下省略)
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我們的技術. 微影創新改變世界. 微影就是用光將電路設計圖微縮投印在矽晶片上— 這是量產晶片時最重要的步驟。 微影技術如何運作. 微影系統本質上是一個投影系統,利用光線 ...
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微影製程(英語:photolithography 或optical lithography,中國大陸稱為光刻工藝)是半導體元件製造製程中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...
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... 微影(Interference lithography),在將. 來都有可能應用這些技術來取代目前的光學微影。希望藉由本篇文章粗淺地介紹,能使大家對微影技. 術有所認識,且持續思索並學習 ...
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2023年1月25日 — 其優勢在於製程簡單、可應用的材料多元、不需要光罩、成本比雷射曝光低、生產快速,但缺點在於線寬精細度和大面積製作的接合、印模壽命、以及元件中各材料 ...
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為達成最佳的元件圖案定義,微影術的研究一直不斷的進行,主要的方向大致上可以分為三個部分:. (1)減低曝光的波長,以增光曝光光源的解像能力。從汞燈所發出的g-line(436 ...
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2023年12月6日 — 半導體製程技術隨著時間持續地發展微縮,主要是靠微影技術的進步來實現。早期使用的微影技術光源波長較長,例如g射線(436nm)、i射線(365nm)等可見光, ...
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微影製程是將電路圖案,透過已刻好圖案的光罩及光阻,「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說,在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上(見下圖),我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...
微影 技術應用 參考影音
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