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奈米世代微影技術之原理及應用
為達成最佳的元件圖案定義，微影術的研究一直不斷的進行，主要的方向大致上可以分為三個部分：. (1)減低曝光的波長，以增光曝光光源的解像能力。從汞燈所發出的g-line（436 ... ...（以下省略）
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我們的技術. 微影創新改變世界. 微影就是用光將電路設計圖微縮投印在矽晶片上— 這是量產晶片時最重要的步驟。 微影技術如何運作. 微影系統本質上是一個投影系統，利用光線 ...
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2023年1月25日 — 其優勢在於製程簡單、可應用的材料多元、不需要光罩、成本比雷射曝光低、生產快速，但缺點在於線寬精細度和大面積製作的接合、印模壽命、以及元件中各材料 ...
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2023年12月6日 — 半導體製程技術隨著時間持續地發展微縮，主要是靠微影技術的進步來實現。早期使用的微影技術光源波長較長，例如g射線(436nm)、i射線(365nm)等可見光， ...
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為達成最佳的元件圖案定義，微影術的研究一直不斷的進行，主要的方向大致上可以分為三個部分：. (1)減低曝光的波長，以增光曝光光源的解像能力。從汞燈所發出的g-line（436 ...
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微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...
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微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...
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... 微影（Interference lithography），在將. 來都有可能應用這些技術來取代目前的光學微影。希望藉由本篇文章粗淺地介紹，能使大家對微影技. 術有所認識，且持續思索並學習 ...
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微影 技術應用 參考影音
繼續努力蒐集當中...