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多片晶圓低壓化學氣相沉積爐管內晶圓溫度及膜厚之預測 ...

本研究探討對象為半導體製程中薄膜成長之低壓化學氣相沉積爐(LPCVD furnace)。因晶圓溫度無法有效量測,一般藉由調整爐管溫度來操控晶圓溫度,而晶圓溫度對薄膜厚度有 ... ...(以下省略)

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